品牌 | 昊量光電 | 產地類別 | 進口 |
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應用領域 | 綜合 |
Xeryon微型線性壓電位移臺的XLA系列(XLA-1/3/5/10)憑借其超緊湊設計、納米級精度、高速度和Crossfixx™超聲波壓電驅動技術,在多個高精度運動控制領域具有優勢。
XLA系列微型線性壓電位移臺核心參數-運動控制的突破
型號 | 行程范圍 (mm) | 驅動力(N) | 分辨率 (nm) | 重復精度 (nm) | 速度(max)(mm/s) |
XLA-1 | 5-305 | 1 | 78/312/1250(閉環) / 20-50μm(開環) | ±80(單向) / ±160(雙向) | 5.5-17.5 |
XLA-3 | 10-290 | 3 | 35.8-60 | ||
XLA-5 | 10-290 | 5 | |||
XLA-10 | 10-285 | 10 | 54.9-85.6 | ||
環境使用要求 | 工作溫度-30℃~+70℃ 濕度要求20%-90% RH |
XLA系列核心參數
大行程5-285mm
分辨率78nm-1250nm
重復精度80nm
速度5.5mm/s-85.6mm/s
選型建議
·高精度需求:優先選擇XLA-1或XLA-3(分辨率達78nm,雙向重復精度±160nm)。
·大負載應用:選擇XLA-10(驅動力10N,保持力10N)。
·緊湊設計:XLA-1(僅5.4mm厚度)適合空間受限場景。
·高速運動:開環版本均支持1000mm/s。
控制器兼容性
·所有型號均支持以下控制方式:
·Windows圖形界面
·LabVIEW/Matlab腳本
·C++/Python庫
注:閉環版本需搭配專用控制器(XD-OEM/XD-A),開環版本內置控制器。
應用場景
1. 半導體與光刻設備
·光刻機精密對準:
XLA-10的高分辨率(78nm)和雙向重復精度(±160nm)適合晶圓臺的微米級定位。(如ASML光刻機中的掩模版調整)
·晶圓檢測設備:
XLA-5的快速響應(點對點定位時間25ms)用于自動對焦和掃描平臺。
·優勢
·無磁干擾
·耐真空兼容(可選HV版本)
2. 生命科學與醫療設備
·共聚焦顯微鏡
·微創手術機器人
3. 光學與光子學
·自適應光學系統
·激光加工設備
·技術亮點
·無振動運動(超聲波電機)
·支持LabVIEW/Python控制(快速集成)
4.工業自動化與檢測
5.科研與定制化儀器
·低溫實驗環境
·超真空腔體
6.新興技術領域
·AR/VR光學模組
·生物打印